一会5nm,一会90nm,国产光刻机什么水平?,光刻机,asml,台积电,光刻,掩膜
IT资讯 · 2024-10-31 10:46
第一二代均为接触接近式光刻机,曝光方式为接触接近式,使用光源分别为436nm的g-line 和365nm的i-line,接触式光刻机由于掩模与光刻胶直接接触,所以易受污染,而接近式光刻机由于气垫影响,成像精度不高。第三代为扫描投影式光刻机,利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式创新为光学投...
IT资讯 · 2024-10-31 10:43
智通财经APP获悉,11月9日,国际数据公司(IDC)发布的《中国制造业IT应用市场预测与分析,2020-2024》,IDC预测,2024年中国制造业IT市场相关投资规模将达到258.2亿美元,其中……...
IT资讯 · 2024-10-30 09:11