荷兰政府宣布了限制某些先进半导体设备出口的新规定，这些规定将于 9 月 1 日生效。具体而言，荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。
ASML 在其官网发表声明称，该公司未来出口其先进的浸润式 DUV 光刻系统（即 TWINSCAN NXT:2000i 及后续浸润式系统）时，将需要向荷兰政府申请出口许可证。而
ASML 强调，该公司的 EUV 系统的销售此前已经受到限制。
据 ASML 官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式 DUV 光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
阿斯麦 3 月曾表示，预计 2000i 和 2050i 这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看，TWINSCAN NXT:1980Di 这款浸润式 DUV 光刻机并不在限制范围内。
ASML 官网上关于这一台 TWINSCAN NXT:1980Di 的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于 38nm（可以支持到 7nm 左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上 NXT:1980Di 依然可以达到 7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产 14nm 及以上工艺的芯片，很少去生产 14nm 以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。
