芯片制造中的光刻机到底是什么?

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发布时间:2023-06-20 08:14

光刻机(Mask Aligner)又名掩模对准曝光机,是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂,而光刻工艺是制造流程中最关键的一步,光刻确定了芯片的关键尺寸,在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。

光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面,再经过分步重复曝光和显影处理之后,在晶圆上形成需要的图形。

光刻机的几种分类

根据曝光方式不同

可分为接触式、接近式和投影式。

根据光刻面数的不同

可分为单面对准光刻和双面对准光刻。

根据光刻胶类型不同

可分为薄胶光刻和厚胶光刻。

根据应用不同

可分为用于制造芯片的光刻机,用于封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。

根据操作的简便性

可分为手动、半自动、全自动。

手动:对准的调节方式是通过手调旋钮改变它的X轴、Y轴和thita角度来完成对准,对准精度不高。

半自动:对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。

自动:从基板的上载下载、曝光时长和循环都是通过程序控制。

一般的光刻流程包括底膜处理、涂胶、前烘、对准曝光、显影、刻蚀、去胶光刻检验等,可以根据实际情况调整流程中的操作。

光刻机,通俗点讲就是一台精密的集成电路生产机器。比如计算机核心的CPU、显卡等等。

光刻机主要用途就是生产集成电路,将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上,从而生产出足够微小、 精确、高效率的集成电路。

原标题:《芯片制造中的光刻机到底是什么?》

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