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9月7日，同花顺（300033）新增概念指数”光刻机”，相关指数代码886054。
相关概念解析：
光刻机（掩模对准曝光机）是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
在整个半导体芯片制造过程中，光刻是最复杂工艺，光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右，耗费时间占比约为40-50%，光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。
相关成分股信息：
1）茂莱光学688502
入选理由：2023年5月23日互动易回复：公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。
2）腾景科技688195
入选理由：2023年半年报：公司合分束器项目应用于光刻机光学系统，可满足国产替代进口的需求。
3）波长光电301421
入选理由：2023年8月25日互动易回复：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。
4）百川股份002455
入选理由：2023年4月14日互动易回复：公司生产光刻机溶剂PMA，年产5万吨。
5）炬光科技688167
入选理由：2023年3月20日互动易回复：公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器（招股书中“光场匀化器——光刻应用”），供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。同时，公司与国内在这一领域的研发单位有广泛合作，公司的光场匀化器产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中。
6）新莱应材300260
入选理由：2021年6月22日互动易：光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。
7）芯碁微装688630
入选理由：2023年9月5日互动易：在制版光刻机领域，目前主流制程在100-400nm工艺区间,公司将尽快推出量产90nm节点制版需求的光刻设备以满足半导体掩膜版技术的更新迭代
8）大族激光002008
入选理由：2023年2月15日互动易回复：公司生产的接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化，公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划，并加大研发核心部件国产化。
9）京华激光603607
入选理由：2023年4月17日互动易回复：公司控股的美国菲涅尔制版科技公司是一家多年从事微结构光学技术研发及相关设备制造和维护的企业，在微结构光学方面具有较强的研发实力，尤其在全息光学、菲涅尔猫眼、水晶微结构、浅纹微结构、铂金浮雕等方面研发成果突出，先后研发出多台技术先进、性能突出、与光学制版有关的光刻机设备，并在全球范围内独家供应公司使用。
10）晶方科技603005
入选理由：2022年7月17日互动易：公司下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商，部分产品运用于光刻机部件。
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